『测评前线说』中国第二个“台积电”诞生！中芯国际将搞定7nm工艺：华为成最大客户
众所周知 ， 在全球芯片代工市场中 ， 绝大部分的芯片代工市场份额都被台积电、三星所垄断 ， 因为台积电、三星拥有最为先进的芯片制造技术 ， 在2020年 ， 台积电、三星更是会进入到5nm芯片工艺时代 ， 反观中国大陆地区最大的芯片代工巨头—中芯国际 ， 直到2019年年底才正式开始量产14nm芯片 ， 据透露 ， 目前中芯国际已经接下了华为14nm超级芯片大单 ， 同时在近日也正式向华为交出了第一批14nm芯片 ， 更重要的是 ， 中芯国际14nm芯片工艺正式量产 ， 意味着中芯国际所拥有的芯片制造工艺就能够直接满足国内95%的芯片制造需求 ， 极大的缓解国产芯片在制造领域的困境 。
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除了在14nm芯片工艺上 ， 不断传来好消息以外 ， 目前中芯国际也正在研发全新一代N+1、N+2芯片工艺 ， 根据中芯国际CEO梁孟松描述：“N+1芯片工艺相较于目前的14nm ， 不仅仅在性能方面提升了20% ， 同时在功耗方面也直接降低了57% ， 逻辑面积直接缩小了63% ， 晶体管密度更是提升了近1倍 。 而N2+芯片工艺则会面向更高性能的芯片 ， ”其中梁孟松也更是重点提到 ， 目前中芯国际N+1、N+2芯片工艺都不会采用EUV工艺 ， 再等到相关EUV光刻机设备就绪后 ， 中芯国际方面会直接将N+2芯片工艺直接转向EUV工艺 ， 进一步提升中芯国际的芯片工艺制造水平 。
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【『测评前线说』中国第二个“台积电”诞生！中芯国际将搞定7nm工艺：华为成最大客户】就从目前N+1芯片工艺、N+2芯片工艺的整体规格来看 ， 无疑中芯国际N+1芯片工艺、N+2芯片工艺水准都直接与目前台积电的7nm芯片工艺水准相差无几；对此 ， 很多网友或许就要表示疑问了 ， 目前中芯国际并没有相关的高端EUV光刻机设备 ， 也能够攻克7nm芯片工艺的难题吗？
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其实我们回顾台积电在7nm芯片工艺的发展史 ， 就能够看到 ， 台积电其实在7nm芯片工艺上共有三次技术迭代 ， 他们分别为：“低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7+” ， 前两代的7nm芯片工艺都没有使用高端EUV光刻机设备 ， 唯独N7+使用了EUV工艺 ， 所以对于很多小伙伴们所关心的问题 ， 没有EUV光刻机设备 ， 中芯国际同样也能够进入到7nm芯片工艺时代 ， 但对于7nmEUV芯片工艺则依旧需要依赖高端EUV光刻机设备 。 对此 ， 很多网友也更是纷纷表示：“中国第二个“台积电”要诞生了 。 ”
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据悉 ， 中芯国际为了能够加快芯片工艺研发以及产能提升 ， 今年中芯国际将会加大研发支出 ， 用于研发、建设晶圆厂 ， 投资金额更是高达31亿美元（约人民币216亿元） ， 在上海（20亿美元）、北京（5亿美元）建设12英寸圆晶厂 。
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写在最后：对于中芯国际的强势崛起 ， 成为了国产自主芯片产业背后最有力的“筹码” ， 各位看官 ， 你们怎么看呢？欢迎在评论区中留言讨论 ， 期待你们的精彩评论！
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