【】国产芯真的全面崛起!技术获外媒称认可:中芯国际今年量产7nm芯片
众所周知 , 中国一直以来都是全球芯片需求量最大的国家 , 每年都将会消耗全球约1/3的芯片 , 但即便是面对如此庞大的需求量 , 我们国内在芯片制造领域依旧处于较为落后的态势 , 相对于芯片设计、芯片封测方面 , 早已经追上了世界顶尖主流水准 , 唯独在芯片制造这个环节 , 目前与世界顶尖水准依旧还有这2-3代技术差距(约近5年差距) 。
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相信大家都知道 , 中芯国际已经正式量产了14nm芯片 , 但相较于台积电、三星的7nm工艺水准 , 中间依旧还间隔着12nm、10nm、8nm技术 , 也是有着三代技术差距 , 但我们都知道 , 目前中芯国际联席CEO梁孟松博士 , 也在2月份财报会议上 , 正式对外透露了中芯国际最新的N+1、N+2代芯片工艺的具体情况 , 据悉 , 中芯国际最新一代N+1芯片工艺 , 相较于目前14nm芯片工艺 , 将会有着20%左右的性能提升 , 功耗更是直接降低了57% , 逻辑面积直接缩小了63% , SoC面积也减少了55% , 按照这样的性能参数水准 , 无疑中芯国际的N+1芯片工艺水准 , 已经能够接近于台积电7nm工艺 , 据悉中芯国际N+1芯片工艺将会在今年年底正式实现量产 , 而对于N+2芯片工艺则是面向高性能 , 同时成本也会增加;
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更重要在3月4日 , 中芯国际从荷兰进口的一台ASML大型光刻机顺利通进入到深圳厂区 , 同时也花费了高达近17亿美元(约120亿人民币)用于进口芯片制造的相关原材料和设备 , 这意味着大家最为期待国产芯片的制造环节 , 已经正式开始实现了崛起 , 同时中芯国际的高速崛起发展 , 也是得益于梁孟松博士的加入 , 而面对中芯国际如此神速的进步 , 自然也是引起了外媒的关注和报道 , 这意味着 , 中芯国际的实力已经开始得到“外媒认可” , 当然对于中芯国际未来发展而言 , 如果无法获得EUV光刻机 , 这意味着会影响中芯国际N+2工艺之后的发展 , 毕竟要发展6nm、5nm芯片还是需要EUV光刻机 , 而DUV极限也就是7nm工艺水准;
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【【】国产芯真的全面崛起!技术获外媒称认可:中芯国际今年量产7nm芯片】写在最后:随着中芯国际在芯片制造工艺水准不断崛起 , 要知道目前7nm工艺水准已经能够生产接近90%的芯片 , 而未来中芯如果能够进一步引进EUV光刻机 , 意味着也将会再次缩小与台积电、三星之间的差距 , 期待中芯国际在芯片制造领域能够不断地取得突破 , 当然小编也更寄希望于我国自己的 , 不弱于世界的光刻机的出现 。 对此 , 各位小伙伴们 , 你们对于“国产芯片”崛起 , 都有什么样的意见和看法呢?欢迎在评论区中留言讨论 , 期待你们的精彩评论!
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