：ASML研发下一代EUV光刻机：分辨率提升70% 逼近1nm极限
在EUV光刻机方面 ， 荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机 ， 去年出货26台 ， 创造了新纪录 。据报道 ， ASML公司正在研发新一代EUV光刻机 ， 预计在2022年开始出货 。
根据ASML之前的报告 ， 去年他们出货了26台EUV光刻机 ， 预计2020年交付35台EUV光刻机 ， 2021年则会达到45台到50台的交付量 ， 是2019年的两倍左右 。
目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C ， 两者基本结构相同 ， 但NXE:3400C采用模块化设计 ， 维护更加便捷 ， 平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时 ， 支持7nm、5nm 。
此外 ， NXE:3400C的产能也从之前的125WPH（每小时处理晶圆数）提升到了175WPH 。
不论NXE:3400B还是NXE:3400C ， 目前的EUV光刻机还是第一代 ， 主要特点是物镜系统的NA（数值孔径）为0.33 。
ASML最近纰漏他们还在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列 ， NA指标达到了0.55 ， 主要合作伙伴是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心 。
与之前的光刻机相比 ， 新一代光刻机意味着分辨率提升了70%左右 ， 可以进一步提升光刻机的精度 ， 毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的 。
不过新一代EUV光刻机还有点早 ， 至少到2022年才能出货 ， 大规模出货要到2024年甚至2025年 ， 届时台积电、三星等公司确实要考虑3nm以下的制程工艺了 。
【：ASML研发下一代EUV光刻机：分辨率提升70% 逼近1nm极限】
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