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[]中国刻蚀机挺进5nm产线，芯片国产替代还有多久？

近日 ， 国内半导体设备龙头企业中微公司公布了登陆科创板的首份“答卷” ， 营收及利润同步增长 。而同时其旗下刻蚀设备也迎来新突破 ， 并成功挺进5nm产线 。
芯片生产设备的更新升级 ， 将进一步带动国产芯片快速发展 。作为芯片生产的基础设备之一 ， 中微自主研发5nm刻蚀机有望打破垄断壁垒 ， 进一步加速芯片国产替代步伐 。
蚀刻机逐步获得新突破
“刻蚀”和“光刻”一样 ， 都是芯片生产必不可少的工序 。可以说 ， 光刻机是芯片制造的魂 ， 蚀刻机是芯片制造的魄 ， 要想制造高端芯片 ， 这两者必须达到顶尖 。
从工艺上来说 ， 光刻机就是把图案印上去 ， 然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分 ， 留下剩余的部分 。刻蚀是紧密连接光刻的后续环节 ， 两者相辅相成 ， 不可分割 。
截止到目前 ， 全球刻蚀工艺主要以7nm为主 ， 并逐渐向6.5nm设备市场进发 ， 而中微企业首次突破产业壁垒 ， 使我国成为全球第一个能够制造5nm刻蚀机的国家 ， 遥遥领先于世界 。根据中微公司最新披露 ， 其5nm高端刻蚀机设备已经获得台积电的认可 ， 并建立起批量订单交易 。
【[]中国刻蚀机挺进5nm产线，芯片国产替代还有多久？】当然 ， 除了中微公司在半导体设备上的“突围”之外 ， 中芯国际、北方华创、靖江先锋等半导体芯片公司也在5nm蚀刻机核心零部件领域取得先进成果 ， 据靖江市科学技术协会消息 ， 靖江先锋半导体5nm芯片工艺刻蚀核心零部件已经研发成功 ， 即将投入生产 。
可以说 ， 半导体厂商的逐步发力 ， 为我国芯片设备长足发展提供了有利条件 ， 进一步打破国外垄断壁垒 ， 芯片国产替代步伐进一步加速 。
芯片国产替代指日可待
值得一提的是 ， 我国不仅在蚀刻工艺环节获得新突破 ， 在光刻领域我国也不断交出满意答案 ， 带动国产芯片迅速崛起 。
作为国内芯片龙头企业 ， 中芯国际已经成功引进荷兰ASML光刻机设备 ， 为国产芯片扩能奠定了良好基础 。
[]中国刻蚀机挺进5nm产线，芯片国产替代还有多久？
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而近日 ， 又一利好消息传来 ， 被誉为“半导体行业里明珠”的光刻机再创“国之辉煌” 。据多家媒体联合报道 ， 福建安芯半导体公司成功出货一台光刻机 ， 价值两千万 。根据进一步了解 ， 此台光刻机国产化程度已经达到60%以上 ， 将被送至我国科研机构用于CMOS芯片领域的研发 。
可以说 ， 突破光刻机困局 ， 才真正打响国产芯片的“突围之战” ， 国产芯片自主化趋势越来越明显 。
前不久 ， 华为第一款“纯国产芯片”麒麟710A的问世 ， 打破了国内芯片对外国及台积电芯片的依赖 ， 是我国芯片转向自主化发展的真正开始 。而此款芯片是由中芯国际14nm工艺生产制程 ， 两大巨头的联合为国产芯片发展注入一剂“强心剂” ， 国产芯片未来可期 。
作为国内芯片龙头企业 ， 中芯国际持续发力 ， 不仅实现14nm的量产 ， 还进一步突破7nm生产技术防线 ， 实现N+1、N+2工艺的新突破 ， 对于打破国产芯片生产困局有重要作用 。目前 ， N+1工艺已经进入客户导入阶段 。
此外 ， 紫光展锐的发展势头也不容小觑 ， 凭借其虎贲系列芯片的成功获得了海内外的广泛认可 ， 成为国产芯片势力中新的增长极 。
不可置否 ， 我国芯片行业起步较晚 ， 受困于国外技术封锁和垄断壁垒的存在 ， 芯片技术发展缓慢 。但是 ， 随着5G时代的到来 ， 我国芯片发展迎来180度大转弯 ， 半导体生产设备及芯片技术的进步 ， 为芯片的国产替代提供了坚实的基础 。实现弯道超车 ， 不是没有可能 。


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