#技术#芯片制造“大国重器”背后的九九八十一难( 六 )
结语：一次跨度20年的国产化浪潮 回看我国光刻机和刻蚀机的国产化浪潮 ， 这是一个对外突破层层限制封锁 ， 对内从无到有逐步萌芽与发展的故事 ， 它们几乎从同一起跑线出发 ， 却因技术壁垒的差异跑出了两种不同的光景 。
在这场跨度20年的国产化进程中 ， 我们既看到了以尹志尧为代表的创业先锋 ， 晚年毅然放弃国外高薪待遇回国 ， 带领国内刻蚀机水平突破先进制程领域；更看到中国作为一名长跑型选手在追赶先进技术领域的信心和决心 ， 将半导体产业提升到国家越来越重要的发展地位 ， 各路政策、资金、人才等资源全力支持 。
现阶段 ， 我国追赶国际半导体设备巨头的玩家仍屈指可数 。 在光刻机领域有上海微电子一马当先 ， 在刻蚀机领域则有中微半导体和北方华创双双出击 。
但在阶段性的成果背后 ， 我们也要看到国内玩家与全球巨头在技术水平、市场规模上还存在较大差距 ， 而造成这一差距的不仅仅是落后了数十年的技术经验 ， 也有着巨大的资金投入差异 。
未来 ， 我国的光刻机和刻蚀机仍需面对许多挑战 ， 但经历20年发展所取得的阶段性成果 ， 我们有理由相信在未来 ， 国产光刻机和刻蚀机终将发挥无限的潜力 。
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