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「光刻机」技术突破！中国光刻机终于迎来好消息，国产化已超过60%！


「光刻机」技术突破！中国光刻机终于迎来好消息，国产化已超过60%！
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「光刻机」技术突破！中国光刻机终于迎来好消息，国产化已超过60%！
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虽然我国目前拥有强大的国际实力 ， 但不得不承认在有些方面我国的技术确实需要创新与进步 。
譬如在我国的高新技术领域有许多产品是国外进口 ， 手机是目前人类生活离不开的一大工具 ， 品牌的选择对于国人来说就显得尤为重要 ， 而美国的苹果手机更是得到了许多国人的青睐 ， 众人周知中兴和华为是我国两大科技巨头 。
那究竟是怎样的原因让国人放弃对国产品牌的选择而选择美国产品呢？实际上华为旗下的芯片设计企业并不具有制造芯片的能力 ， 这就要求他们不得不寻找代工厂来进行芯片的制造 。

更加现实的是国内的企业对于芯片的制造工艺目前也停留在14nm ， 对于7nm芯片的研制技术也是无从下手 ， 就连大家所熟知的中芯国际对于芯片的研究也只是对外宣称了12nm技术上的突破 。
所以华为就不得不寻求美国代工厂来完成芯片的制作 ， 2019年的热搜新闻 ， 中兴事件和华为事件更是给了我们一大启示 ， 在科技方面 ， 我国必须独立自主 。

【「光刻机」技术突破！中国光刻机终于迎来好消息，国产化已超过60%！】在美国向外界宣称对我国实行芯片断供政策的压力下 ， 我国科研人员努力探索芯片的研发自产技术 。
但现实是用于芯片制造的关键机器设备缺乏 ， 同时已经签订成功的国外光刻机制造企业交货延期 ， 效率低下这一现象 ， 让我国科研人员对于芯片的制造望而却步 。
但我国并没有灰心妥协 ， 终于在科研人员的努力研发下我国科技上有了自己的巨大成就 ， 得到了进一步的提升 ， 这一令国人震惊的好消息就是我国光刻机国产化已经超过60% 。
目前我国第一台由福建安芯半导体公司制造的光刻机在2020年4月份正式交由海康威视 ， 虽然这台光刻机目前还不能完全实现芯片的自主研发 ， 但它依旧在我国芯片制造方面发挥了巨大的价值 。
同时福建安芯科技并没有停止对光刻机的生产改造 ， 相信在他们以及国内其他企业的联合下 ， 光刻机实现自主研发指日可待 ， 我国科技公司最终也能摆脱在国外寻找芯片代工厂的命运 。
好了 ， 今天就为大家介绍到这里 ， 我们下一期再见！


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