科道长中国制造芯片有多难？EUV级别的光刻机是中国芯片之痛( 二 )
位于光刻机中心的镜头 ， 由20多块锅底大的镜片串联而成 ， 镜片需要高纯度透光材料加高质量的抛光 。 ASML的镜片是蔡司技术打底 ， 镜片材料做到均匀需几十年到上百年的技术积累 ， 同样一个镜片不同的工人去打磨 ， 光洁度会相差10倍 。 在德国抛光镜片的工人 ， 有的祖孙三代在同一家公司的同一个职位 。
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除此之外 ， 光刻机需要体积小 ， 但功率高而且稳定的光源 。 ASML的顶级光刻机使用波长短的极紫外光 ， 光学系统极其复杂 。 就算有顶级的镜头和光源 ， 没有极致的机械精度也是白搭 ， 光刻机里有两个同步运动的工件台 ， 一个载底片 ， 一个载胶片 ， 两个工作台由静到动 ， 加速度需要跟导弹发射差不多 ， 但却要求两者始终同步 ， 误差在2纳米以下 。 所以必须要求极端的机械精度才行 。
目前我们和ASML的技术相比至少相差了十几年 ， 所以想在微电子领域完全不被欧美卡脖子 ， 还有很长的路要走 。
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