光刻机@西方“打死不卖”光刻机，中国能自研吗？专家拿美国日本做了对比( 二 )
而到了2018年11月29日 ， 中科院“超分辨光刻设备”验收通过 ， 精度达到22nm ， 结合双重曝光技术 ， 可制造10nm工艺芯片 。 现如今 ， 中芯国际的芯片制造工艺达到了7nm ， 这意味着我们绝没有在世界级难题面前畏惧不前！
哪怕美国、日本都做不出那又怎样？哪怕西方砸了数百上千亿又怎么样？我们也用钱砸 ， 更用人才砸！在当年条件艰苦的时候 ， 咱们也能突破西方封锁造出两弹一星 ， 如今科技、经济全面发展、顶尖人才层出不穷 ， 相信一定也能突破西方的封锁线 ， 成功实现光刻机自研！
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