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拆穿谣言“40年前我国就已在用光刻机生产芯片了”( 三 )

1978年之前 ， 我们虽然有光刻机 ， 但技术水平与西方已经相差了十几年 。 西方在1978年已经推出成熟的分步投影光刻机 ， 而我们的半自动接触式光刻机刚刚研制成功 。 在今天 ， 我们要进口荷兰的EUV光刻机 ， 同样不是因为我们自己没有光刻机 ， 而是因为我们的光刻机不如别人的先进 。 在前面说的那篇文章中 ， 还有一个很大的笑话 ， 就是声称清华大学早在70年代就已经制成了分步光刻机 ， 证据是一张模糊的奖状 。 拆穿谣言“40年前我国就已在用光刻机生产芯片了”
据说是研制成功分步光刻机的证据在这张奖状的“合作成果”第二项 ， 写着“ZFJ-1-2型及ZFJ-1-3型自动分步重复照相机”的字样 ， 文章下面介绍说：这就是芯片制造中最核心的光刻机 。有趣的是 ， 在一篇题为《朱煜：精密事业》的文章中 ， 也有同样的陈述：从圆梦的角度看 ， 作为一个清华人 ， 朱煜深深了解历史上清华大学与中国光刻机研发之间的渊源 。 上世纪70年代 ， 清华大学精仪系成功研制了“自动分步重复照相机” ， 也就是当时的步进光刻机 。 那时 ， 当今的半导体巨擘英特尔不过刚刚成立 ， 现在的光刻机巨头ASML还未创立 ， 那台“清华出品”让中国足以自豪 。 然而 ， 随着国家放慢了对半导体工业支持的脚步 ， 从20世纪70年代到21世纪初 ， 在狂飙突进的国际半导体行业 ， 我国却被远远甩在了后面 ， 清华人真的黯然了 。朱煜的来头 ， 大得吓人 ， 以至于我不得不把资料反复查了N遍 ， 然后确定上述的说法是胡说八道 。清华精仪系研制的“自动分步重复照相机” ， 是1971年交付的 。 而世界上第一台分步光刻机 ， 是1978年产生的 ， 那么问题来了 ， 清华难道走在美国人前面了？真实的情况是什么呢？看看原文拆穿谣言“40年前我国就已在用光刻机生产芯片了”
研制小组.激光干涉定位自动分部重复相机[J].清华大学学报(自然科学版),1973(03):1-20.拆穿谣言“40年前我国就已在用光刻机生产芯片了”
ZFJ-1-2型自动分步重复照相机[J].仪器仪表通讯,1972(06):16.文章里写得清清楚楚 ， ZFJ-1-2型自动分步重复照相机 ， 是用来制作掩膜的 ， 掩膜制作是光刻的前一个环节 ， 与光刻完全不是一码事 。看看下图 ， 分步重复相机是用来制造光学掩膜母版的 ， 再往下才是光刻环节 。 拆穿谣言“40年前我国就已在用光刻机生产芯片了”
邬纪泽.美国大规模集成电路用光学设备(出国参观考察报告)[J].光学工程,1980(03):12-35出现这种讹误的一个原因 ， 在于最早的分步重复光刻机是从分步重复相机改进而来的 。分步重复光刻相当于把分步重复相机的输出由母版直接转到硅片上 ， 原理是一致的 ， 但光源的要求不同、透镜的要求不同、投射的材料不同 ， 技术难度相差了岂止一个太平洋？分布重复相机早在60年代就已经有了 ， 但分步光刻机是1978年才问世的 ， 把这两样东西说成同一回事 ， 是无知 ， 还是硬往脸上贴金？40年前中国第二吗？某些人利用吃瓜群众对技术的无知 ， 罗列了一堆型号 ， 就声称40年前的电脑和芯片市场上 ， 美国第一 ， 中国第二 。我这里有一张捡来的图 ， 可以看看：拆穿谣言“40年前我国就已在用光刻机生产芯片了”
1958年 ， 中国拉出了第一块硅单晶 ， 比日本早2年；1965年 ， 中国造出第一块集成电路 ， 比日本晚5年；但是 ， 日本的集成电路产量从100万到1000万 ， 花了1年 ， 从1000万到1亿 ， 花了2年 。 而中国从100万到1000万 ， 花了6年 ， 再到1亿 ， 花了12年 。日本1970年的集成电路产量是中国的100倍 ， 你告诉我说中国的技术是世界第二？你世界第二还不赶紧生产赚钱？你世界第二还得等到1976年苦哈哈地想从日本引进人家淘汰的生产线？你吹牛的时候忘了打草稿吗？1978年之前 ， 中国堆型号的事情做过很多 ， 几乎每个领域都有各种紧跟国际前沿的型号 。 一开始还能够模仿出来 ， 越追就越吃力 。 原因无它 ， 技术的发展是呈金字塔结构的 ， 一个技术尖峰的下面 ， 是大量的基础技术 。 而这些基础技术需要有产量来支撑 。就比如中国的5G技术 ， 之所以能够走在世界前列 ， 是因为我们拥有全球最大的4G网络 。 我们形成了丰富的使用经验 ， 培养了大量的设备供应商 ， 这样走到5G上才能游刃有余 。 1978年的中国 ， 这个型号也要搞 ， 那个型号也要搞 ， 每个型号出来只能造三台五台 。 这样的产量 ， 根本不值得制造专用设备 ， 于是就搞“苦干加巧干” 。 前一代这样出来了 ， 后一代呢？再往后呢？


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