#光刻机#开始崛起！华为不慌，中国制造国产芯片的国产光刻机有所突破！
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在今年除了疫情对我国以及全世界的影响之外 ， 其实对我们还有一个更大的技术困难 ， 就是美国以及其他欧洲国家在光刻机上研制对我国的施压 ， 主要是由于美国方面的阻挠 ， 让我们本身从荷兰订购的最新款光刻机不能完成交付 ， 在这样的一种打压之下也让人们更加清楚了 ， 只有国家真正的自己强大 ， 才能够获得一些更好的发展实力 。
【#光刻机#开始崛起！华为不慌，中国制造国产芯片的国产光刻机有所突破！】在美国认为华为可能会因为光刻机的未能交付而从此落寞的时候 ， 国产企业的发展其实已经开始有崛起的苗头了 ， 这样的一种发展也让华为有了信心 ， 华为不慌 ， 我们就来看一看中国的芯片制造究竟是怎么样的吧 。
其实提及中国的芯片制造 ， 大多数人都会想到台积电和中芯国际 ， 这两家企业虽然有实力 ， 但是关于光刻机的研制确实不太有一些长期发展的 ， 在这样的情况之下 ， 就需要将这样的技术研制交给一些长期做这样的研制的公司 ， 在我国的发展当中上海微电子关于光刻机的研制是比较久了的 。
而现在他们现在已经量产了90纳米的SSA600/20光刻机 ， 目前这样的发展是比较不错的 ， 但是要想有一些更高级别的突破 ， 其实还需要更多的一些时间 。 目前为止他们更在致力于28纳米以下浸没式光刻机 ， 对于这一个被人们寄予厚望的公司 ， 他们也预计在2021年交付首台国产28nm光刻机 。
除了那家公司之外 ， 还有就是我国武汉的光电国家研究中心 ， 光刻机的一些整体发展和组成其实都是相对复杂的 ， 而我国在瓦森纳协议协定当中也明确规定了我们不能够直接购买 ， 需要用老一代的东西来更新 ， 这一就更加限制了我们的发展 。
在这样的基础上下甘棕松团队就采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制 ， 这一团队的发展利用远洋光学的办法 ， 对光刻机制造有所突破 ， 并且目前已经光合出了最小的9纳米的一些线段 。
这样的一种发展更利于我国的光刻机研制 ， 即使不能从传统的方向上对光刻机进行复刻 ， 但如果我们能够找到一些新型的方式来研制光刻机的话也是很好的 。
好了 ， 今天就为大家介绍到这里 ， 我们下一期再见！
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