光刻机是国产芯片的“痛中痛”，中国何时可以摘取这颗明珠？( 三 )
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图 | 武汉光电国家研究中心研制的“9nm 光刻机”
2020 年初 ， 中科院对外宣称已经攻克了 2nm 工艺的难题 ， 相关研究成果已经发布到国际微电子器件领域的期刊当中 。
5 月 19 日 ， 上海微电子装备（集团）股份有限公司称 ， 其自研的高亮度 LED 步进投影光刻机 ， 是中国首台面向 6 英寸以下中小基底先进光刻应用领域的光刻机产品 ， 已从 1200 多个申报项目中成功突围 ， 入选“上海设计 100+” 。
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图 | SMEE 的高亮度 LED 步进投影光刻机
【光刻机是国产芯片的“痛中痛”，中国何时可以摘取这颗明珠？】有进步 ， 当然值得开心 ， 但也必须意识到 ， 这离国际先进水平仍有一定距离 。
认清现实
2018 年中兴事件之前 ， “全面赶超”“新中国四大发明”等 ， 一度让中国人很是骄傲 。
近年来 ， 在社交媒体上 ， 一直都有来自欧美的博主 ， 夸赞中国的手机支付有多普遍、高铁有多快 。 有位来自美国的抖音博主“巴哥 bar” ， 拍过一则视频：他从华为手机店买手机后 ， 把手里的苹果手机摔地上 。
不排除部分外国博主 ， 有取悦中国粉丝的倾向 。 但是 ， 也侧面印证近些年中国在科技方面的进步 。 进步的确有 ， 但远远未达到发达国家水平 。 对于成绩的赞美 ， 当然有必要 ， 但也不应躺在功劳簿上洋洋自得 。
2018 年 ， “中兴事件”发生后不久 ， 前科技日报总编辑刘亚东作过一场《除了那些核心技术 ， 我们还缺什么》的演讲 ， 其中就提到中国在光刻机上 ， 仍需要进步 。 他还表示：“明明是在别人的地基上盖了房子 ， 非说自己有完全、永久产权 。 如果只是鼓舞士气也就罢了 ， 可麻烦的是 ， 发出这些论调的人忽悠了领导 ， 忽悠了公众 ， 甚至忽悠了自己 ， 这就成了问题 。 ”
马超也对 DeepTech 说 ， “我们光刻机方面就是比国外落后了 20 年 ， 因此对于国内的光刻企业还要给予耐心 ， 不能急功近利 。 ”
中国速度固然令人惊叹 ， 但速度和质量齐头并进 ， 才能走得扎扎实实 。
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