【光刻机】国内传出好消息，国产光刻机领域突破在即，华为的助力来了
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国产光刻机众所周知 ， 国内的芯片技术由于起步较晚且长期受到国外的技术封锁和人才垄断 ， 导致一直处于落后于发达国家的水平 ， 但是目前这种情况已经得到了较大的改善 。
芯片的生产过程是非常复杂的 ， 从硅的采集 ， 提纯到晶圆的切割 ， 光刻八步 ， 再到刻蚀 ， 芯片测试 ， 最后封装 ， 每一个步骤对技术的要求都十分严苛 ， 而光刻正是其中最为关键的一个步骤 。
那么光刻是通过什么来实现的呢？那就是我们今天的重点 ， 光刻机 。 光刻机是芯片生产过程中必备的设备 ， 可以说没有光刻机就无法生产出芯片 。
很多人都不知道光刻机具体是干嘛的 ， 简单来说 ， 光刻机就是一种用紫外线在硅片、石墨烯等晶圆上刻集成电路的系统设备 。 一台光光刻机的零配件高达5万个 ， 制造过程极其复杂 ， 被誉为“现代光学工业之花”！
我们国家光刻机研发起步晚 ， 但是追赶速度很快 。 目前光刻机全球梯队中 ， 荷兰的ASML公司是当之无愧的世界第一 ， 掌握着顶尖的光刻机制造技术；其次是日本的尼康等公司 ， 虽然能生产出光刻机 ， 但那也是中低端水平的 。
再之后就是我们国内的上海微电子装备股份有限公司了 ， 这也是目前国内对光刻机研究最深的公司了 。 上周有媒体报道 ， 上海微电子已经可以交付28nm的光刻机了 ， 但是最近有消息传来 ， 似乎不只是28nm那么简单！
据最新消息称 ， 上海微电子预计在今年12月 ， 将可能下降首台采用ArF光源的可生产11nm的光刻机 。 如果采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7nm ， 那么该光刻机将有生产7nm芯片的潜力！
也就是说 ， 国内在光刻机领域取得了巨大的突破 ， 因为之前国内的技术一直停留在14nm技术上 。 虽然这次光刻机能生产7nm只是说有潜力 ， 但是至少给了我们希望 ， 至少给了科研工作者动力！
华为的助力此次国内光刻机领域传出好消息也是华为的一个助力 ， 因为华为目前正面临着严峻的芯片封锁限制 。 一旦缓冲期过去后 ， 为华为芯片代工的台积电可能就会瞬间翻脸 ， 到时候华为的芯片供应就成了巨大的问题 。
因为除了台积电外 ， 国内最先进的代工厂中芯国际的水平只达到了14nm ， 相比于台积电的7nm甚至5nm水平来说 。 有着绝大的差距 。 而荷兰ASML公司又不将高端光刻机卖给我们的话 ， 这种情况就真的十分艰难了！
但是现在不一样了 ， 国产光科技如果不借助ASML公司级就能达到7nm技术的话 ， 这将是一个绝大的飞跃 。 到时候华为也不用再担心芯片供应问题了 ， 因为7nm的芯片对华为来说一定是足够使用的 ， 大不了先把5nm芯片放一放 。
所以说 ， 国产光刻机的突破不仅给国内的科研领域带来的信心 ， 还给华为公司带来的很大的助力 ， 这或许能让华为度过接下来的危机 。
总结国产光刻机的突破证明了我国科研工作者的智慧是无穷的 ， 只要继续努力 ， 未来一定能再创辉煌 。 华为虽然目前遭受着严峻的考验 ， 但是国内也表达了对华为的支持 ， 相信华为一定能挺过这次难关！
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