【光刻机】国产光刻机再次“破冰”，张忠谋的话惨遭打脸？美科技界始料未及( 二 )
其次 ， 中芯国际也曾表示 ， 想要制造7nm以下的芯片必须要用EUV光刻机 ， 而受美国压制 ， 荷兰AMSL的EUV光刻机迟迟没有交货 。 所以中芯国际有点“巧妇难为无米之炊”的意思 。
由这两点来看 ， 张忠谋的话好像颇有道理 。 但中国的科技发展是我们无法预见的 ， 速度之快是我们无法预料的 。 就在前不久 ， 国产光刻机再次“破冰” ， 张忠谋的话惨遭打脸 。
据环球Tech媒体消息显示：上海微电子或将在明年年底交付一台28nm光刻机设备 。 这是什么概念呢？
虽然现在最高工艺是5nm ， 台积电预计在明年会试产3nm 。 国内28nm与之相比不是小巫见大巫吗？有什么可高兴的呢？但话不能这么说 ， 理不能这么论 。
众所周知 ， 国内光刻机此前一直都在90nm徘徊 ， 进展速度缓慢 。 这一次直接进步到28nm ， 速度之惊人让人拍手称快 。 虽然与5nm、3nm中间还有十万八千里 ， 但比起此前的90nm已经是质的飞跃了 。
随着时间的推移 ， 相信我们也能凭借自己的技术支持 ， 做到与世界顶尖齐平的地位 。 那么张忠谋说的举国之力也难超越这话就有点偏激了 。
而上海微电子在光刻机领域的再次“破冰” ， 相信美科技界也始料未及 ， 他们一定想不到 ， 中国的科学技术发展如此之快 。
上海微电子光刻机的突破 ， 对华为来讲也是一针定心丸 。 哪怕现在还没办法为华为高端芯片代工 ， 但至少证明了 ， 我们有未来 ， 我们国家的半导体行业能够看到未来 。
本期讨论：你们觉得上海微电子能成为第二个AMSL吗？
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