|中科院正式宣布重大突破！美国：怎么可能？
众所周知 ， 自从华为被制裁以后 ， 国内都知道了国内的芯片制造技术很落后 ， 基本上世界先进水平还有10~20年的差距 。 这个差距都有什么呢？比如光刻机制造技术 ， 光刻机是用于芯片生产 ， 而制造光刻机就是生产工具的工具 。
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因此对于工业基础很讲究 ， 工业基础容易就陷入“循环”最终走不出来 ， 这是“先有鸡跟先有蛋的问题” ， 最终还是要靠生产力的缓慢积累 ， 从无到有的过程 ， 最终是人工操作 。 比如德国的镜头 ， 那是三四代人努力的结果 ， 所以没有那么容易超越 。
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过技术问题最终还是要回归到材料问题 ， 比如德国的机械为什么这么猛？加工高速旋转的时候肯定有磨损 ， 但是人家的就是不会有很大的偏差 ， 原因是因为主轴承里面有 特殊的材料 。
【|中科院正式宣布重大突破！美国：怎么可能？】应用材料的发展 ， 说容易也容易 ， 只有东西拿到手 ， 一个星期之内就可以弄清楚其中的组成成分和排列 ， 但是问题就是怎么样合成这种材料 ， 内部的成分和排列一模一样 ， 最终就是“投钱” ， 不断地试错 ， 有很大的随机性 。
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不过最终我国中国正式宣布了一项重大突破 ， 让美国科技界惊呼不可能 ， 这到底是什么呢 ， 美国如此眼红？
一、中科院公布硅－石墨烯－锗晶体管
石墨烯这种材料 ， 前景广阔 ， 目前已经在开始应用在了透明导电电极、触控屏、太阳能电池、锂电池、超级电容器、导热薄膜、海水淡化、环境污染治理等领域 ， 比如韩国三星和日东电工等都在研制电池 。
西方国家在石墨烯的研发上投入了大量的人力、物力 ， 最终是实现了石墨烯的分离 ， 因为在自然界是不存在石墨烯的 ， 它是一个二维平面结构 ， 一毫米的石墨里面就有300万层石墨烯片 ， 可想而知要得到单层石墨烯片是有多难 。
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现在基本上都可以分离石墨烯 ， 石墨烯是目前人们发现最轻薄、强度最大且导电性最强的新型纳米材料；而且是石墨烯电池在充放电25万次仍能够保持91%容量 ， 寿命极长；同时在石墨烯中 ， “狄拉克点”的存在 ， 使得电子能够高效迁移 ， 是传统半导体远远达不到的 。
想想内存芯片是怎么工作 ， 靠的就是电容的充放电 ， 这个石墨烯做成电容 ， 哇塞 ， 这个DRAM存储芯片可以上天；同时做成芯片内部的晶体管 ， 这个电子高效迁移 ， 芯片的工作效率 ， 啧啧 ， 而且最重要是石墨烯的散热能力还极强 ， 强度是钢铁的数十倍 。
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这次中科院公布的硅－石墨烯－锗晶体管就可以将石墨烯基区晶体管的延迟时间缩短1000倍以上 ， 不得了 ， 厉害了 。
二、美国怎么不眼红
看了上面 ， 美国怎么能够不眼红 ， 欧美等国家多次尝试 ， 先一步得到分离方法 ， 获得单层的石墨烯 ， 但之后便原地踏步 ， 这一步中国科学院率先突破 ， 美国变成了“柠檬精” ， 酸溜溜的 。
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同时 ， 现在是国内半导体的关键节点 ， 现在全国上下都在为光刻机发愁 ， 如果能够进一步跟光刻技术结合 ， 投入生产绝对震撼的 ， 这个石墨烯材料跟光刻蚀刻还有很好的兼容性；一旦在半导体行业开始应用 ， 将对整个芯片的 制程、光刻蚀刻技术、光刻材料产生颠覆 。
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