芯片|中芯国际霸气官宣! 即便无法进口EUV光刻机: 也有底气量产7nm芯片


芯片|中芯国际霸气官宣! 即便无法进口EUV光刻机: 也有底气量产7nm芯片
文章图片
芯片|中芯国际霸气官宣! 即便无法进口EUV光刻机: 也有底气量产7nm芯片
【8月8日讯】相信大家都知道 , 全球最顶尖的两大芯片代工巨头—台积电、三星 , 在芯片制造工艺、市场份额、客户等各个领域都展开了激烈的竞争 , 而三星一直都想要超越台积电 , 成为全球最大的芯片代工巨头 , 但在近日 , 三星方面在5nm制程工艺方面却再一次翻车 , 而高通方面也已经将自己的骁龙875芯片订单转给了台积电 , 毕竟目前台积电5nm芯片工艺已经实现了量产 , 已经正在生产苹果A14以及华为麒麟1020芯片 , 并且在9月14日后 , 台积电将无法继续为华为生产麒麟1020芯片 , 而高通骁龙875芯片订单则恰好可以弥补台积电空余的麒麟1020芯片订单的产能;确实也正如台积电董事长刘德音所言:“台积电并不会受到很大的影响 , 台积电有能力填补华为海思芯片的订单缺口;” 对此很多网友都纷纷表示:“国内最大的芯片代工巨头—中芯国际目前只能够量产14nm芯片 , 何时才能够量产7nm甚至是5nm芯片产品呢?”
根据中芯国际高管表态来看 , 中芯国际想要实现7nm芯片量产其实也并不遥远 , 根据梁孟松介绍:“中芯国际将会在2021年量产“N+1”芯片技术 , 相对比14nm芯片 , 功耗降低57% , 逻辑面积小63% , SOC面积减少55%;” 对比之下 , 中芯国际的N+1芯片技术完全不逊色于台积电的7nm制程工艺 , 只是中芯国际并没有称之为7nm工艺 , 而是叫做N+1罢了 。
更重要的是中芯国际的“N+1”芯片技术 , 并不需要进口最先进的EUV光刻机 , 直接利用现在的193nm波长的光刻机 , 通过浸润式技术 , 就可可以达到等效于134nm的波长 , 从而实现7nm芯片工艺的精度 , 预计在2021年就可以实现小规模量产 , 在2022-2023年实现大规模量产;虽然对比台积电、三星这样的芯片代工巨头 , 在7nm芯片制程工艺上慢了足足5年左右时间 , 但随着芯片技术工艺触及了摩尔定律的天花板时 , 意味着未来台积电、三星在更加先进的芯片制程工艺上突破将会更加困难 , 而这也将有助于中芯国际进一步缩小批次之间的技术差距;
【芯片|中芯国际霸气官宣! 即便无法进口EUV光刻机: 也有底气量产7nm芯片】最后:对于中芯国际的“N+1”芯片技术 , 各位小伙伴们 , 你们对此都有什么样的意见和看法呢?欢迎在评论区中留言讨论 , 期待你们的精彩评论!


    推荐阅读