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那年初夏 中国永远造不出高端光刻机？莫要长他人志气灭自己威风( 二 )


因此 ， 尽管ASML生产的EUV光刻机开出天价（每台1.2亿美元）、体积庞大（一台EUV光刻机重180吨 ， 超10万个零件 ， 需要40个集装箱运输 ， 安装调试需要一年时间）、出货缓慢（每年产量19台 ， 排队交货 ， 需要等好几年） ， 但丝毫不妨碍ASML每年都接到雪片一样的订单 。
而目前 ， 国内最成熟的光刻机加工制程仍是90nm ， 由上海微电子装备公司出品 。 明年他们计划交付首台国产28nm的immersion光刻机 。
刺眼的差距 。
买卖要看脸色 ， 我们的出路在哪里？2017年 ， 中芯国际成功预定了ASML公司1台制程为7nm的EUV光刻机 。 但至今 ， 这台光刻机都没有顺利交付 。
部分国外媒体把这件事的原因归结为ASML主要元器件供应商Prodrive在2018年突发大火 ， 所有订单只能延期 。
但究其根源 ， 我们都心知肚明：是一份包括“巴统”17国在内的28个国家共同拟定的《瓦森纳协定》 。
根据这份协定 ， 即便中国企业想购买二手的光刻机设备 ， 也必须等到国外的公司使用5年后才能拿到手 。 相当于我国的企业在2020年只能买到ASML2015版的光刻机 。 而5年 ， 对于半导体产业来说 ， 已经能够进行数次更新迭代 。
对于像ASML这样的企业来说 ， 一边是可以源源不断为自己提供各种研发资源的大国 ， 一边是只有一台订单的中芯国际 ， 孰轻孰重不言而喻 。 光刻机 ， 留给我们的就只有“自研”这一条路 。
相似的话 ， 在上海微电子成立时也出现在欧洲专家的口中：“即使有全套图纸 ， 中国也造不出光刻机 。 ”但显然 ， 上海微电子做到了 ， 并且一直在进步 。
为了光刻机 ， 国内各界一直拼尽全力 。 2018年 ， 清华大学朱煜团队研发出双工作台光刻机 ， 使我国成为全球第二个具备开发双工作台光刻机的国家 。 2019年 ， 武汉光电国家技术研究中心甘棕松团队成功刻出9nm线宽的线段 ， 实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新 ， 打破了三维纳米制造的国外技术垄断 。
最近 ， 中芯国际的高管开始喊话“即便无法进口EUV光刻机 ， 也有底气量产7nm芯片”了 。 他们已经成功通过浸润式技术达到7nm芯片的工艺精度 ， 预计在2021年就可以实现小规模量产 。
至于华为 ， 从2016年就开始申请光刻机相关技术专利 ， 据相关数据显示 ， 目前已经在相关领域投资了80亿美元 。
中国真的会如ASML所认为的那样 ， 永远也不可能生产出7nm的光刻机吗？
或许这个“永远” ， 也没那么远 。
《我是科学人》纪录片由长安信托特约赞助 。


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