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爱集微APP|南大光电：公司光刻胶产品客户验证正在顺利推进

爱集微APP|南大光电：公司光刻胶产品客户验证正在顺利推进
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集微网消息10月10日 ， 南大光电接受投资者提问时表示 ， 公司研制出的光刻胶产品于2020年初进入客户端测试 ， 预计需要12-18个月的时间 ， 目前客户验证正在顺利推进 。
南大光电称 ， 公司承接的“ArF光刻胶开发与产业化项目”按项目计划于2020年底2021年初接受国家02专项专家组的验收 ， 具体验收时间会根据专家组的通知安排调整 。
目前 ， 南大光电已安装完成一条193nm光刻胶生产线 ， 正在调试 。 193nm光刻胶作为当前高端芯片制造（AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等）中最为核心的原材料 ， 被喻为半导体工业的“血液” ， 可以用于90nm~14nm技术节点的集成电路制造工艺 。
据了解 ， 南大光电成立子公司宁波南大光电 ， 全力推光刻胶进项目落实实施 。 公司组建了包括高级光刻胶专业人才的独立研发团队 ， 建成1500平方米的研发中心和百升级光刻胶中试生产线 ， 产品研发进展和成果得到业界专家的认可 。
【爱集微APP|南大光电：公司光刻胶产品客户验证正在顺利推进】经过几年的业务布局和市场拓展 ， 南大光电产品行业覆盖由LED逐步拓展到集成电路、半导体、面板等行业 ， 业务转型实现重大突破 。 其中 ， 南大光电在MO源的合成制备、纯化技术、分析检测、封装容器等方面已全面达到国际先进水平 ， 成功打破国外在这一重要光电子原材料领域的垄断地位 。
南大光电凭借多年来的技术积累优势 ， 先后承担并攻克了国家“863计划”MO源全系列产品产业化、国家“02专项”高纯电子气体（砷烷、磷烷）研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目 ， 填补了多项国内空白 。 2017年 ， 公司承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm光刻胶材料的研发与产业化项目 ， 先后获得国家“02专项”之“193nm光刻胶及配套材料关键技术开发项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”的正式立项 。 （校对/nanana）


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