三星宣布完成5纳米EUV开发,性能提高10%
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【环球网科技综合报道】4月16日 , 三星通过官网新闻中心宣布实现基于EUV光刻的5纳米FinFET工艺 , 并已准备好投入生产 。 据悉 , 这一成果由三星在韩国华城的S3晶圆厂及其供应链合作伙伴贡献 。
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与7纳米相比 , 三星的5纳米FinFET工艺使特定面积的晶体管数量增加了25% , 性能提升10% , 功耗降低20% 。 ???此外 , 它是三星重复利用7纳米相关知识产权的成果 , 因此大幅减少了时间成本和落地成本 。
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CNET报道称 , 三星代工业务高级副总裁ShawnHan表示 , 这款芯将于2020年第二季度全面生产 。
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