『』没有2亿美元别上6nm 展锐科普：5G处理器虎贲T7520强在哪？
目前上市的5G处理器还是7nm的 ， 前不久紫光展锐发布了虎贲T7520 ， 全球首发6nm EUV工艺 ，
展锐表示没有2亿美元就别想做6nm芯片 。
虎贲T7520则是基于马卡鲁2.0平台 ， 单芯片集成5G基带 。这也是继华为、高通、三星、联发科之后的5G SoC新势力 ， 并且在技术工艺、通信能力、AI、视觉能力、续航能力、安全性等六大方面都具有突出的优势 。
考虑到紫光展锐第一代5G芯片还是12nm工艺的 ， 现在直接进入到了6nm EUV工艺 ， 进步值得表扬 ， 但在这背后势必也付出了极大的努力 ， 资金、人员、时间投入不低 。
那虎贲T7520处理器到底有多强大？尤其是6nm EUV工艺先进在哪里？紫光展锐刚刚发了一篇科普文章 ， 介绍了6nm EUV工艺的先进特性 。
根据紫光展锐所说 ， EUV工艺的难点主要在光源、发光、转化率、成本等问题上 ， 其中最先进的EUV光刻机售价高达1亿欧元一台 ， 是DUV光刻机价格2倍多 ， 采购以后还需要多台747飞机才能运输整套系统 。
详细内容可以参考下面的全文：
??只有引入EUV技术的6nm才是真正的6nm ， 而这项技术也将伴随未来可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路前行 。
自1965年英特尔创始人之一的戈登·摩尔提出摩尔定律以来 ， 半导体领域就一直在遵循着“当价格不变时 ， 集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18个~24个月便会增加一倍 ， 性能也将提升一倍”的规律前行 。
技术人员一直在研究开发新的IC制造技术 ， 以缩小线宽、增大芯片的容量 。
【『』没有2亿美元别上6nm 展锐科普：5G处理器虎贲T7520强在哪？】EUV光刻机的出现 ， 就是一个重大突破 。它实现了高速 ， 低功耗和高集成的芯片生产工艺 ， 满足了5G高性能、超带宽、低时延和海量连接的需求 。
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图片来源：台积电陈平在紫光展锐2020春季线上发布会演讲
这么厉害的EUV ， 原理是什么？
光刻技术基本上是一个投影系统 ， 将光线投射并穿透印有电路的光罩 ， 利用光学原理将图形打在已涂布感光剂的硅晶片上 ， 进行曝光 ， 当未曝光的部分被蚀刻移除后 ， 图样就会显露出来 。
在光刻技术中 ， 提升分辨率的途径主要有三个：一是增加光学系统数值孔径；二是减小曝光光源波长；三是优化系统 。
EUV相较于DUV ， 把193nm波长的短波紫外线替换成了13.5nm的“极紫外线” ， 在光刻精密图案方面自然更具优势 ， 能够减少工艺步骤 ， 提升良率 。
EUV技术的究竟难在哪儿？
光源产生难:
193nm紫外线的光子能量为6.4eV（电子伏特 ， 能量单位） ， EUV的光子能量高达为91~93eV！
这种能量的光子用一般的方法是射不出来的 ， 激光器或灯泡都不行 ， 它的生成方法光是听起来就非常变态 ， 这需要将锡熔化成液态 ， 然后一滴一滴地滴落 ， 在滴落过程中用激光轰击锡珠 ， 让其化为等离子态 ， 才能释放“极紫外光” 。
这样的光源用久了就会在里面溅很多锡微粒 ， 必须要定时清洁才行 。
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图片来源：Cymer: Extreme Ultraviolet(EUV) Lithography Light Sources
发光过程难:
EUV不仅能量高 ， 对物质的影响也极其强大 ， 它们可以被几乎任何原子吸收 ， 所以传播路径必须是完全的真空 。
要想让EUV聚焦到合适的形状 ， 只能用这种用6面凹面镜子组成的系统——EUV/X射线变焦系统（EUV /X-Ray focusing systems） 。
有效功率转化率低:
可是就算是镜子 ， 每一面镜子都会吸收30%的EUV ， 整个系统里有4个镜子用于发光系统 ， 6个镜子用于聚焦系统 。EUV光罩本身也是一个额外的镜子 ， 形成了11次反射 。
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