光刻胶:光刻胶国产替代空间巨大 相关公司有望受益(附名单)

1.南大光电
公司目前拥有MO源、电子特气、光刻胶三大业务板块 。 凭借30多年来的技术积累优势 , 南大光电先后攻克了国家863计划MO源全系列产品产业化、国家“02—专项”高纯电子气 体(砷烷、磷烷)研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目 , 填补了多项国内空白 。 2017年 , 南大光电承担了“02专项”中对集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm ArF光刻胶材料进行研发与产业化项目 。
由公司作为牵头单位承担的国家“02专项”ArF光刻胶产品的开发与产业化项目已经国家科技部批准立项 。 项目总投资额为65557 万元人民币 , 拟通过3年的建设、投产及实现销售 , 达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模 。
2.雅克科技
【光刻胶:光刻胶国产替代空间巨大 相关公司有望受益(附名单)】公司是一家致力于工业材料 , 生产和销售的深交所中小板上市公司 。 雅克旗下设有“新材料” , “新能源”和“电子”事业部 。 2019年 , 雅克科技参股江苏科特美新材料有限公司10%股权 , 该公司的主要运营实体是韩国 Cotem Co. Ltd.公司 , COTEM位于韩国京畿道坡州市 , 主要产品是TFT-PR及光刻胶辅助材料(显影液、清洗液等)、BM树脂等 。
2020年2月25日 雅克科技子公司斯洋国际有限公司与LG化学签署《业务转让协议》 , 约定斯洋国际以580亿韩元(以2020年2月25日韩元汇率中间价1元人民币对韩元173.37 元为基准 , 约合人民币3.35亿元)购买LG化学下属的彩色光刻胶事业部的部分经营性资产 。 LG化学作为LCD彩胶和OLED光刻胶主要供应商之一 , 行业知名度高 , 技术先进 , 市场占有率高 。
3.上海新阳
产品广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域 , 已成为多家集成电路制造公司28nm技术节点的基准材料(Base Line) 。 上海新阳193光刻胶项目目前处于实验室研发阶段 。 公司自2016年底开始内部立项开发半导体用高端光刻胶 , 2017 年公司开始基础研发工作 。 公司计划总投资2亿元人民币 , 用于 193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目 , 预计在2019年底通过客户验证 , 预计在2020年开始实现销售 , 初步目标为1000万元;2022年达产年实现销售5000万元 。 同时上海新阳也正在开发 i 线、KrF 光刻胶产品及其配套材料 。 上海新阳从实验室用光刻机、人才和关键原材料三个角度积极推进光刻胶研发进程 。
客户侧生产线上线测试是光刻胶的研发重要挑战之一 。 由于光刻胶产品的上线与曝光设备的工艺参数设臵息息相关 , 光刻胶的验证工作需要与客户合作开调整线上工艺参数 。 同时 , 这种调整这也需要晶圆代工厂的上游客户同意 。 因此相对于替换客户现用产品 , 在晶圆厂设备的更新迭代开发过程中有比更大的合作机会 。
4.晶瑞股份
其四大类微电子化学品(超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料和锂电池粘结剂)均为下游五大新兴行业(半导体、光伏太阳能电池、LED、平板显示和锂电池)的关键材料 。 经过多年研发和积累 , 晶瑞股份部分超净高纯试剂达到国际最高纯度等级(G5) , 打破了国外技术垄断 , 制定了多项行业标准; 在国内率先实现目前集成电路芯片制造领域大量使用的核心光刻胶的量产 , 可以实现 0.35m 的分辨率 , 在业内建立了较高技术声誉 。
2018年6月 , 公司“02 专项”通过专家验收 。 目前 , 承担并完成了国家 02 重大专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目 , i 线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货 , KrF(248nm 深紫外)光刻胶完成中试 , 产品分辨率达到了 0.25~0.13m 的技术要求 , 建成了中试示范线 。 公司积累了一批稳定的客户 , 并与下游行业的众多头部企业建立长期合作伙伴关系 , 如半导体行业的客户华虹宏力、 长江存储、合肥长鑫等 , 锂电池行业客户比亚迪、力神等 , LED 行业的客户三安光电、华灿光电等 。
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