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光刻机：南大光电突然宣布！国内光刻机领域再迎突破，日本、美国始料未及


光刻机：南大光电突然宣布！国内光刻机领域再迎突破，日本、美国始料未及
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光刻机：南大光电突然宣布！国内光刻机领域再迎突破，日本、美国始料未及

中国的华为公司可以说投入了巨大的资金 ， 以及无数科研工作者的不懈努力 ， 耗费了十几年才终于在5G技术领域实现了全面的超越与领先 ， 可是就在华为自信满满的在全球普及5G技术之时 ， 却突然遭受了来自美国特朗普政府的百般打压与抹黑 ， 理由依然是认为华为5G设备存在安全隐患 ， 甚至美国多位高级官员都曾在公开场合抹黑华为 ， 这令很多网友怒不可遏！真的是欲加之罪何患无辞 。
美国特朗普政府其实对中国在美国的基础通讯领域的公司都进行了打压 ， 比如华为和中兴 ， 中兴选择了接受了罚款 ， 罚款总金额高达10亿美元 ， 美国可以说不费吹灰之力就这样通过罚款获得了10亿美元 ， 用一句中国的老话讲“空手套白狼”再贴切不过了 ， 而华为并没有像中兴那样选择认罚 ， 华为可以说开启了全面的反击 ， 打造去美化供应链 ， 重金构建HMS生态 ， 华为以最快的速度将影响降到了最低 ， 而美国特朗普政府似乎注意到华为非但没有被遏制住 ， 反而是更加激发了华为的斗志 ， 便开始对华为的芯片供应链“下手”！

在5月15日 ， 美国商务部便发布了一则声明 ， 将会对全球芯片晶圆的来源进行管控 ， 任何向华为提供半导体技术或晶圆的合作都需要得到美国商务部的审批 ， 不难看出 ， 这一次真的是戳中了华为的“软肋” ， 我们都知道华为的高端芯片一直由台积电进行代工 ， 毕竟国内半导体行业的发展虽然有所进步 ， 但是相对于台积电的代工水准来说 ， 就显得要落后几代了 。
其实国内半导体行业发展如此缓慢的一个原因便是国内无法突破高端光刻机的瓶颈 ， 而光刻机对于半导体行业来说至关重要 ， 华为拥有世界上先进的芯片设计公司海思半导体 ， 如果没有光刻机 ， 那么对华为来说一切都只是“PPT”上的美好愿景！当然了我们也不能要求半导体领域所有的高端技术都要华为来承担 ， 在国内芯片代工领域 ， 可以说中芯国际发展的比较好 ， 这个重任的确也必须交给中芯国际来完成 ， 而且近日有媒体实地探访了上海中芯国际 ， 而且根据上海中芯国际内部的一位高级工程师表示 ， 除了光刻机以外 ， 其余的设备都已经解决！

正如这位高级工程师所言 ， 高端光刻机领域需要的技术很多 ， 这是一个由诸多尖端科技共同组成的精密设备仪器 ， 不过中国目前已经在光刻机领域实现了很多的技术突破 ， 甚至某些光刻机领域的技术突破填补了国内的空白 ， 就比如中微半导体完成了国产5nm蚀刻机的研发 ， 而且已经被台积电采购并应用到其生产线当中 ， 中国也成为了世界上首个突破5nm蚀刻机的国家 ， 其能够研发成功还是要感谢背后的科学家尹志尧！
当然了在光刻机领域除了蚀刻机技术之外 ， 还有一个至关重要的技术 ， 那就是光刻胶技术 ， 毫不客气的说 ， 如果没有光刻胶技术 ， 即使拥有了高端光刻机也是徒劳 ， 光刻胶是用来在电子技术中微细图加工中必不可少的关键材料 ， 而且作用更是用来在芯片制造中将掩膜版图形转移到表面顶层光刻胶中 ， 并且在后续芯片工艺中 ， 可以起到保护材料免受刻蚀以及阻挡电离子注入作用 。
不过在光刻胶领域长期被日本 ， 和美国所霸占 ， 根据权威统计机构公布的数据来看 ， 日本和美国两者在全球的市场占比达到了90% ， 可以说完全垄断全球的光刻胶技术 ， 但是面对这样的技术垄断封锁 ， 中国的南大光电顶住了巨大的压力 ， 终于在近日突然宣布了一个重磅消息 ， 南大光电表示目前已经在国产ArF光刻胶技术上取得了巨大的突破 ， 同时国产ArF光刻胶也即将量产并进入到销售阶段 ， 虽然目前我们仍然无法造成自己的高端光刻机 ， 但是在光刻机领域中的其他相关技术 ， 中国一直没有停止前进的步伐 。


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