光束 ASML官宣全新半导体技术 5nm工艺产能有望暴涨600%
【光束 ASML官宣全新半导体技术 5nm工艺产能有望暴涨600%】《科创板日报》（上海 ， 研究员 何律衡）讯 ， 全球最大光刻机设备制造商ASML近日在其官网宣布 ， 完成了第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000的测试 。
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ASML官网截图据悉 ， HMI eScan1000是一套基于HMI多光束技术的检测系统 ， 用于验证5nm及更先进工艺生产出来的晶圆质量 ， 其突破之处在于 ， 能够同时产生、控制九道电子束 ， 帮助产能提升600% ， 大大减少晶圆质量分析所用的时间 。
业内普遍认为 ， 工艺越先进 ， 检测系统就越重要 ， 后者的检测精度、吞吐量决定了生产的效率 。 ASML的HMI产品营销副总裁Gary Zhang表示 ， 随着制程工艺不断提升 ， 晶圆的制造愈加复杂 ， "杀手级"的缺陷也更加微小 ， 无法通过现有的光学检测技术和设备一一锁定 。
"我们的HMI多光束检测系统能够检测到这些微小的缺陷 ， 同时解决了电子束通过量的限制 ， 使其更适合于大批量制造环境 。 "Gary Zhang强调 。
据介绍 ， HMI多光束系统包含一个复杂的光电子系统 ， 能够产生和控制多个初级电子束 ， 然后收集和处理反射回来的次级电子波束 ， 同时将波束之间的串扰限制在2%以内 ， 并提供一致的成像质量 。
此外 ， 该系统还具有提高系统总体吞吐量的高速阶段 ， 以及实时处理来自多个波束的数据流的高速计算体系结构 。 除了物理缺陷外 ， 还适用于电压对比检测 。
官网文章透露 ， HMI eScan1000已于本周交付客户进行验证 。 将来 ， ASML还计划增加光束数量和光束分辨率 ， 以满足客户未来对更先进工艺的要求 。
据了解 ， 光刻机是半导体制造领域的核心设备之一 ， 而ASML是全球技术水平最高、影响力最大的光刻设备供应商 ， 市场份额达到80% ， 同时也是全球最先进极紫外（EUV）光刻机的唯一供应商 。
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