光刻机:再次确认上海微电子研发出11nm光刻机是假的,华为:尽力了

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国产光刻机如果能到11nm的程度 , 那么华为也不会陷入到无芯可用的尴尬境地 。 准确的说应该是研发微电子研发的28nm光刻机将在2021年正式落地 , 这款光刻机有生产11nm芯片的能力 。
从光源上细分现在世界上光刻机的发展前后已经经历了五代 , 第四代光刻机使用的是波长为139纳米的Arf光源的光刻机 , 其制程工艺节点为130纳米-65纳米 , 45纳米-22纳米 , 如果从这点上看上海微电子研发的28nm的光刻机是一个标准的四代光刻机 。
世界最先进的第五代光刻机使用的是波长为13.5纳米的EUV光源的极紫外光刻机 , 其制程节点为22纳米-7纳米 。 这个领域的产品基本上全被ASML把持着 , 无人能撼动其王者的地位 。 虽然上海微电子和ASML差距极大 , 但是它在低端光刻机市场依旧表现不俗 , 并在国内占据了80%的市场份额 。
从目前曝光的信息上看 , 上海微电子研发的28nm的光刻机有生产11nm芯片的能力 , 这对华为来说绝对是一个天大的好消息 。 目前台积电在加班加点的赶制华为最新麒麟芯片的订单 , 按照华为的公司战略 , 一般采购的芯片足够支撑公司两年使用 。 虽然最新的芯片采用了5nm的工艺 , 但是在11nm工艺的加工下依旧能用 , 当然不可避免的后果就是芯片体积变大、性能下降以及发热量提高 , 但是这比被完全被美国卡住脖子强太多 。
况且只要能熬过这几年 , 随着国家资源对光刻机领域的倾斜以及中美关系的改善 , 芯片问题也很可能会迎来新转机 。 其实这点很多科技领域的专家都做过预测 , 追赶是肯定追赶不上ASML的脚步了 , 但是达到ASML现在的水平还是有可能 , 当然专家们给了一个不太乐观的预测 , 那就是达到ASML现在的水平至少要10~20年左右 。
【光刻机:再次确认上海微电子研发出11nm光刻机是假的,华为:尽力了】
ASML其实类似于一个组装工厂 , 它设计出来最新的光刻机后需要从全世界采购最先进的零件 , 进而拼装组成一台完整的光刻机 。 现在这些零件商把持着所有零件的销售 , 即使我们拿到了ASML的图纸 , 没有零件依旧白搭 。 这意味着我们需要在光刻机的每个领域都要取得突破 , 除非得到国家的鼎力支持 , 否则光靠一个上海微电子还是过于势单力薄 , 不过上海微电子能研发出28nm的光刻机已经足够令人惊喜 , 既然被人卡住了脖子 , 那么只能撸起袖子加油干 。
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