垄断|国产光刻机若想弯道超车，需克服3大难题，才有望打破ASML垄断我国|弯道|企业|

_原题为 国产光刻机若想弯道超车，需克服3大难题，才有望打破ASML垄断
上海微电子作为我国唯一的光刻机巨头，如今拥有的直接持有专利与专利申请数量已达3200件，一年的光刻机出货量超50台，表现令人瞩目。但上海微电子当前只能在低端光刻机领域徘徊，在高端领域仍是无法突破ASML的垄断。虽然上海微电子表示，将在2021到2022年交付28nm immersion式光刻机。

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但与目前已能生产5nm芯片的ASML高端光刻机相比，仍有着难以超越的差距。光刻机因极高的研制难度，狠狠地卡住了我国芯片行业的脖子，成为我国想要实现芯片安全可控，必须推翻的一睹大墙。国产光刻机若想要弯道超车，需要克服3大难题，才能有望打破ASML的垄断。

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首先，需要突破的便是技术垄断。 ASML成立于1984年，至今已有36年的时间。在这三十多年里，与光刻机有关的必要技术，都已被ASML收入囊中，从而形成技术垄断趋势。而中国光刻机企业想要从一片空白中突破重重技术壁垒，绕开ASML专利，何其艰难。因此，技术垄断是摆在中国企业面前的第一道坎。

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其次，美国对中国科技企业的重压，更是成为我国发展的一大阻碍。在2018年，中芯国际便向ASML订下了一台光刻机，而是如今两年已经过去，在此期间ASML交付了数十台光刻机，却唯独没有中芯国际的份。在这背后，离不开美方的挑唆，而中芯国际的芯片工艺也因此被拖后。

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美国在芯片代工领域如此，而在光刻机领域更是不会放任中国企业的发展。中国光刻机领域行业发展之路本就曲折，还有美国的阻碍，前路更是泥泞。而且，就算在我国高端光刻机取得了突破，还是要提防美国。华为便是一个典型的例子。

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最后， ASML光刻机的完成是依靠全球领先科技企业的共同努力。 ASML一台光刻机要用到10万件零件，其中， 90%都由其他国家企业提供。由此可以看出，光刻机的生产需要集结全球的力量。虽然我国光刻机没有必要拿下所有相关技术，但核心技术还是要掌握在自己手中。

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这就需要全国半导体企业的共同努力，仅靠一家公司完全不可能打破ASML的垄断。由此看来，我国光刻机行业的发展道阻且长，需要不断的突破与完善产业链。
你认为，国产光刻机的发展，还有哪些阻碍？
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