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拒绝过分神化，中国四十年前就能造出光刻机了( 二 )


姜文汉,邬纪泽.JK-1型半自动接近式光刻机研制报告[J].光学工程,1981(05):3-16.很明显 ， 中国当时已经意识到分步投影光刻技术的优越性 ， 但限于条件 ， 无法实现 。 考虑到国外在60年代就已经有了接触式光刻机 ， 中国与国外的差距在20年左右 。1979年 ， 机电部45所开展了分步光刻机的研制 ， 对标的是美国的4800DSW 。 1985年 ， 研制出了样机 ， 通过电子部技术鉴定 ， 认为达到4800DSW的水平 。 如果资料没有错误 ， 这应当是中国第一台分步投影式光刻机 ， 采用的是436纳米G线光源（周得时.为研制我国自己的分步光刻机(DSW)而拼搏[J].电子工业专用设备,1991(03):30-38.） 。 按照这个时间节点算 ， 中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年（美国是1978年） 。另据资料显示 ， 45所在六五、八五、九五期间分别完成了1.5微米、0.8微米和0.5微米光刻机的研制任务 。1990年3月 ， 中科院光电所研制的IOE1010G直接分步重复投影光刻机样机通过评议 ， 工作分辨率1.25微米 ， 主要技术指标接受美国GCA8000型的水平 ， 相当于国外80年代中期水平 。此后的资料有点乱 ， 一时梳理不清楚 。 从一些边角的资料看 ， 国家在2000年前后启动了193纳米ArF光刻机项目 。 2002年 ， 上海微电子装备有限公司承担了“十五”光刻机攻关项目 ， 中电科45所把此前从事分步投影光刻机的团队迁到了上海 ， 参与这个项目 。 至2016年 ， 上海微电子已经量产90纳米、110纳米和280纳米三种光刻机 。国际上已经放弃了157纳米的光源 ， 除ASML掌握了EUV光源技术之外 ， 其他各家使用的都是193纳米ArF光源 ， 中国在这点上与除ASML之外的“外国”是同步的 。这一节的总结：中国的光刻机研制在70年代后期起步 ， 初期型号为接触式或接近式光刻机 ， 85年完成第一台分步光刻机 ， 此后技术一直在推进 ， 各个时间点均有代表性成果 ， 并未出现所谓完全放弃研发的情况说完了整个脉络 ， 我们可以回头看看网上的谎言 。 中国在1972年就有光刻机 ， 这话或许不假 ， 但这与2017年我们买进一台EUV光刻机没有一毛钱的关系 。 就像我们说冯如在1909年就造出了一架飞机 ， 但2018年我们还在买空客380 ， 因为它们根本不是同一回事 。1978年之前 ， 我们虽然有光刻机 ， 但技术水平与西方已经相差了十几年 。 西方在1978年已经推出成熟的分步投影光刻机 ， 而我们的半自动接触式光刻机刚刚研制成功 。 在今天 ， 我们要进口荷兰的EUV光刻机 ， 同样不是因为我们自己没有光刻机 ， 而是因为我们的光刻机不如别人的先进 。在前面说的那篇文章中 ， 还有一个很大的笑话 ， 就是声称清华大学早在70年代就已经制成了分步光刻机 ， 证据是一张模糊的奖状 。拒绝过分神化，中国四十年前就能造出光刻机了
据说是研制成功分步光刻机的证据在这张奖状的“合作成果”第二项 ， 写着“ZFJ-1-2型及ZFJ-1-3型自动分步重复照相机”的字样 ， 文章下面介绍说：这就是芯片制造中最核心的光刻机 。清华精仪系研制的“自动分步重复照相机” ， 是1971年交付的 。 而世界上第一台分步光刻机 ， 是1978年产生的 ， 那么问题来了 ， 清华难道走在美国人前面了？真实的情况是什么呢？看看原文拒绝过分神化，中国四十年前就能造出光刻机了
研制小组.激光干涉定位自动分部重复相机[J].清华大学学报(自然科学版),1973(03):1-20.拒绝过分神化，中国四十年前就能造出光刻机了
ZFJ-1-2型自动分步重复照相机[J].仪器仪表通讯,1972(06):16.文章里写得清清楚楚 ， ZFJ-1-2型自动分步重复照相机 ， 是用来制作掩膜的 ， 掩膜制作是光刻的前一个环节 ， 与光刻完全不是一码事 。看看下图 ， 分步重复相机是用来制造光学掩膜母版的 ， 再往下才是光刻环节 。拒绝过分神化，中国四十年前就能造出光刻机了
邬纪泽.美国大规模集成电路用光学设备(出国参观考察报告)[J].光学工程,1980(03):12-35出现这种讹误的一个原因 ， 在于最早的分步重复光刻机是从分步重复相机改进而来的 。分步重复光刻相当于把分步重复相机的输出由母版直接转到硅片上 ， 原理是一致的 ， 但光源的要求不同、透镜的要求不同、投射的材料不同 ， 技术难度相差了岂止一个太平洋？分布重复相机早在60年代就已经有了 ， 但分步光刻机是1978年才问世的 ， 把这两样东西说成同一回事 ， 是无知 ， 还是硬往脸上贴金？某些人利用吃瓜群众对技术的无知 ， 罗列了一堆型号 ， 就声称40年前的电脑和芯片市场上 ， 美国第一 ， 中国第二 。拒绝过分神化，中国四十年前就能造出光刻机了
1958年 ， 中国拉出了第一块硅单晶 ， 比日本早2年；1965年 ， 中国造出第一块集成电路 ， 比日本晚5年；但是 ， 日本的集成电路产量从100万到1000万 ， 花了1年 ， 从1000万到1亿 ， 花了2年 。 而中国从100万到1000万 ， 花了6年 ， 再到1亿 ， 花了12年 。日本1970年的集成电路产量是中国的100倍 ， 你告诉我说中国的技术是世界第二？你世界第二还不赶紧生产赚钱？你世界第二还得等到1976年苦哈哈地想从日本引进人家淘汰的生产线？吹牛的时候打草稿了吗？


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