导体|【芯观点】悬在中国半导体上的达摩克利斯之剑,卡脖子光刻机能解决么?( 二 )


“ASML最新型号的一台光刻机 , 其中10万个精密零件来自全球5千多家供应商 。 ”沈波表示 , 这意味着单单依靠ASML也不足以解决半导体制造的问题 , 其早已是全球化精细合作的结果 。
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图源:金十数据
沈波指出 , 集成电路的发展追求积极的微缩路线图、尺寸的微缩便需要边缘定位精度(EPA)的不断提高 。 ASML把研发的技术配套成为光刻解决方案推出 , 其包括了先进控制能力的光刻机台、计算光刻和测量 , 通过建模、仿真、分析等技术让边缘定位精度不断提高 , 令成像达到最优 。 ASML的整体光刻解决方案能够提高产品良率和生产效率 , 不但能够帮助行业客户提升芯片价值 , 同时也可以降低生产成本 。
合作开放的策略加上多年的技术研发令ASML走上了成功之路 , 此外人才招揽和培训也是不可或缺的因素 。 ASML的2.5万名员工来自全球100多个国家 , 而在中国 , ASML员工来自全球各地 , 有着多元化的文化背景 。 据沈波介绍 , ASML中国员工和全球员工一样 , 可以无差别接触到和工作相关的技术知识和培训 。 每一位刚刚加入ASML中国的工程师在第一年都能够接受1200小时左右的技术培训 。
作为半导体制造领域的领军企业 , ASML进入中国并布局已经有20年的时间 , 2000年 , ASML在中国天津正式成立大陆地区的第一个办公室 , ASML迄今为止在中国大陆12个城市有办事处或分支机构 , 分别为天津、上海、北京、无锡、武汉、西安、大连、南京、厦门(晋江)、合肥、深圳、广州 。
跟随中国产业政策和集成电路发展的趋势 , ASML在地理位置上也实现了在中国大陆的扩展:从东到西 , 从南到北 , 从一线城市到二三线城市 。 技术合作和发展方面 , 除了定制化配置相应的光刻设备 , ASML为中国客户提供其所需的光刻技术、服务和解决方案 。
在布局中国的同时 , ASML也加快为中国半导体行业持续输送知识和经验、培养技术研发人才 。 2018年 , ASML在上海成立了全球培训中心 , 现已是全球五大培训中心之一 。 目前ASML在中国多所STEM领域的理工科高校中招聘 , 为中国半导体行业延揽和培养人才 。
中国光刻机水平差距与突破
不难看出 , ASML的发展依然离不开市场、人才、技术的布局和投入 , 这也是中国半导体制造产业需要学习的 。 目前高精度光刻机由ASML、尼康和佳能三家公司保持 , 而顶级光刻机(7nm以下水平)的则由ASML垄断 。
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ASML的光刻机制造更像是一个半导体巧手工匠 , 其实际只掌握了10%的核心技术 , 而来自美国、日本、欧洲、中国台湾、韩国的技术支持和零部件是由ASML集成起来 , 这样才能把极其复杂的EUV光刻机制造出来 。
目前中国在光刻机上的水平与世界领先水平相距甚远 , 上海微电子装备公司(SMEE)生产的光刻机加工精度是90nm , 而目前最新的商用芯片精度已经达到5nm , 当中差距起码4个世代以上 。
目前中国半导体行业遭遇了外部的强大压力 , 可是无疑在重压后整个行业的发展依然快速增长 。 不过要解决芯片甚至半导体发展的卡脖子领域 , 芯片制造也就是光刻机的制造无疑是重中之重 。
现在的中国已经拥有足够多的资金及人才来攻克半导体领域的难关 。 中科院日前宣布将举全院之力攻克光刻机 , 而国内四大部门发改委、工信部、科技部、财政部也联合发布了对半导体等高新材料产业的指导意见 , 释放出未来我国将重点攻克半导体领域核心技术的信号 。
相信在国家政策指导和倾斜的前提下 , 以中国科学家的智慧 , 攻克难关会是早晚的事情 。 不过我们也要深刻了解到 , 光刻机甚至是半导体领域制造、材料的困难并不是一朝一夕能解决的 , 在这过程中必然还需要怀着开放的态度与国内外的企业合作 , 切忌闭门造车 。
【导体|【芯观点】悬在中国半导体上的达摩克利斯之剑,卡脖子光刻机能解决么?】了解到我们国家与世界先进水平光刻机的差距后 , 未来的研究和突破依然任重而道远 。 (校对/Andrew)


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