玩懂手机线步进式光刻机，佳能将在明年发售半导体光刻机新产品：i 玩懂手机网资讯

【玩懂手机线步进式光刻机，佳能将在明年发售半导体光刻机新产品：i】玩懂手机网资讯，根据佳能官方消息，佳能将在明年发售半导体光刻机新产品：i线步进式光刻机。

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佳能将在2021年3月上旬发售半导体光刻机新产品——i线步进式光刻机“FPA-3030i5a” 。该产品支持化合物半导体等器件的生产制造，同时降低了半导体制造中重要的总成本指标“拥有成本”（CostofOwnership ，以下简称“CoO”）。新产品是面向8英寸及以下尺寸小型基板的半导体光刻机。不仅是硅晶圆，该产品还可以应对SiC（碳化硅）和GaN（氮化镓）等化合物半导体晶圆，从而实现多种半导体器件的生产制造。因此，对于未来有望需求大增的车载功率器件和5G通信器件等半导体器件，新产品都可以支持生产。此外，与传统机型“FPA-3030i5+”（2012年6月发售）相比，该产品的硬件和软件都进行了更新升级，实现了CoO的降低。

玩懂手机线步进式光刻机，佳能将在明年发售半导体光刻机新产品：i

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