为何不对ASML光刻机进行逆向开发？四大拦路虎在此，个个是硬骨头( 二 ) _ASML

因此，作为民用消费级的摄影镜头即被如此铜墙铁壁般“保护”起来，可想而知作为光刻机物镜系统的光学镜头，又是何等保密级别的存在。
至于我国能否生产出媲美卡尔蔡司的光学镜头，这一点我想摄影圈的朋友们早已知晓答案。我国在先进光学镜头及自动对焦方面的技术积累，目前还是暂且不够的。

物镜系统只是光刻机三核心之一，其他各类处于相关各国严格技术保密、专利禁止转让级别的产品、知识产权还有很多，这些都是对光刻机进行逆向开发所要面对的重重难题。

总结本文写这么多，并非是为涨别人志气灭自己威风，说到底是希望更多爱国民众可以了解光刻机领域的现状，以及我国芯片产业目前所处的环境和角色。光刻机的国产化是历史必然，但现在仍是我国芯片行业所涉各产业链、各环节、各公司潜心学习、循序前行、经验积累的阶段。

我国目前已掌握12~14nm芯片的设计研发生产流程，目前国内也有至少三家（中芯、华虹、弘芯）具备14nm制程生产能力的先进晶圆厂，且12~14nm芯片目前仍属于“性能级”产品（参照Intel 2020年最新发布的Comet Lake系列酷睿处理器，仍使用14nm改良版制造工艺生产）。因此，我们当前面临的问题不仅是7nm光刻机何时供货，更重要的依然是14nm等级光刻机及对应产品的进一步扩容、增产、吃透。

国际竞争瞬息万变、永不停歇，在适当的时间节点迅速适应环境、调整自身角色和心态才是做有用功。先进光刻机的逆向开发，是否就是适合我国的最佳路线？这也并非是一条必须打破头走到底的单线思维，相信我们的科研力量、相信国家的政策扶持，只要付诸努力，必然有所收获。