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光刻胶：深度研究——半导体之光刻胶，看五大龙头谁能迈出国产化第一步？( 二 )


4.五大巨头谁能率先领航国产化？目前国内半导体光刻胶生产和研发企业仅有五家 ， 分别为苏州瑞红（晶瑞股份子公司）、北京科华、南大光电、容大感光、上海新阳 。 以下从半导体的三代光刻技术对于上述五家公司进行对比（半导体行业中 ， 技术进程是唯一的护城河）：
1.UV ， g/i线光刻胶（436/365nm）：
国产化率15% ， 已量产公司：北京科华500吨/年、苏州瑞红120吨/年（02专项）；容大感光产能建设中；
2.DUV ， KrF/ArF光刻胶（248/193nm）:
几乎全部靠进口 ， 已量产公司：北京科华10吨/年；苏州瑞红进入产品中期测试阶段；南大光电（02专项） ， 正在建设中 ， 预计产能25吨/年；上海新阳预计6月份进入产品中期测试 。
3.极紫外（EUV光刻胶）：
目前国内只有北京科华处于早期研究阶段（02专项） 。
【光刻胶：深度研究——半导体之光刻胶，看五大龙头谁能迈出国产化第一步？】综合来看 ， 处于领先身位的为北京科华、苏州瑞红 。


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