互联网乱侃秀 和ASML的5nm光刻机是两码事，别沸腾了！中科院的5nm光刻技术
众所周知 ， 在芯片制造过程中 ， 光刻机占到所有制造设备成本的35% ， 占到工时的40%左右 ， 可以说是芯片制造中最重要的设备之一了 。
但这么重要的设备 ， 国内水平较为落后 ， 目前还在90nm节点 ， 只能用于90nm芯片的制造 ， 属于低端产品 ， 而ASML最强 ， 可用于5nm芯片的生产 ， 中间隔了10年以上的技术 。
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但重要的是当芯片进入到7nm时 ， 必须要用到EUV光刻机 ， 即紫外线光刻机 ， 波长为19.3nm的光源 ， 这种光刻机只有ASML能够制造 ， 而中国芯要实现7nm或以下技术 ， 就得看ASML的脸色 ， 要看对方卖不卖EUV光刻机给你 。
但近日 ， 有一则大消息传出 ， 让网友们沸腾了 ， 那就是“中科院发布5nm激光光刻技术” ， 因为中科院研究出了一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法 。
所以很多人认为这是中国芯的突破 ， 不用从ASML买光刻机了 ， 中国也有自己的5nm光刻机什么的了 。
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但要我说 ， 大家先别沸腾 ， 这个5nm光刻技术 ， 和ASML的5nm光刻机是两码事 。
首先 ， 这个研究团队研发出来的是激光直写技术 ， 实现了纳米狭缝电极阵列结构的规模生产 ， 但这并非是集成电路 ， 自然也不是指芯片制造了 。
目前众多的产品都需要光刻 ， 但并不是所有的光刻技术 ， 就一定可以用于光刻机 ， 这中间是有巨大差别的 ， 别看到光刻技术就以为是光刻机技术 。
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【互联网乱侃秀 和ASML的5nm光刻机是两码事，别沸腾了！中科院的5nm光刻技术】其次 ， 就算它能够用于光刻机 ， 但从原理到最后量产 ， 还需要其它各种元件来组装出来 ， 这个只是光刻部分 ， 中间也有着十万八千里的距离 ， 也许10年8年 ， 也许20年 ， 甚至最后不能量产也是有可能的 。
所以对于中科院发布的这种5nm激光光刻技术 ， 固然是科技的进步 ， 但却和芯片制造的光刻机目前没有太多的联系 ， 大家先别过份解读 ， 也别沸腾 ， 先冷静点 。
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