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中芯国际|落后之谜与希望之光 解码台积电“唯一追赶者” 中芯国际的难点与亮点( 三 )


罗斌总结称：“一切的难点都在于精准 。 ”
除了精准 ， 晶圆制造还有着庞大的工作量 。 陈启表示：“晶圆制造工艺主要包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、清洗、掺杂、金属互连和CMP抛光等几十种工艺 。 在产线上重复数十次完成 ， 工作量异常庞大 ， 例如14nm制程大约需要1500个以上的步骤才能完成 。 ”
集邦咨询分析师徐韶甫对《每日经济新闻》采访人员表示：“单单为了完成一层图案就牵涉到数十道流程 ， 而各个流程又会存在能否检测的问题 ， 有些时候不能在某个制作流程检查是否有问题 ， 要到后几道流程发现问题了 ， 再回推前面的状况进行分析 。 ”
徐韶甫告诉采访人员：“越先进的技术需要的开发时间越长 ， 假设与先进业者的差距仅落后一代 ， 但下一代技术开发所需的时间也不会因此而缩短 。 ”
盛陵海曾对采访人员表示：“晶圆制造没有什么技术不重要 ， 但是最关键是光刻、刻蚀和检测 。 ”而光刻机 ， 或将成为中芯国际未来发展的瓶颈 。 业内公认7纳米仍可以使用DUV光刻机 ， 但若发展7纳米以下制程 ， 必须使用EUV光刻机 。
徐韶甫表示：“EUV已经被普遍用在7纳米以下的节点 ， GAA又要使用在3纳米以下的架构 ， 凭借现在的逻辑制程来达到GAA的纳米尺寸微缩 ， 除了EUV外目前还是难有取代方案 。 ”
早在2018年5月 ， 中芯国际就已向荷兰ASML订购了一台最新型的EUV光刻机 ， 价值高达1.5亿美元 。 然而截至2020年8月 ， 中芯国际仍未收到ASML的EUV光刻机 。 目前 ， 中芯国际研发的N+2仍属于7纳米制程 ， 若后续发展更为先进的制程工艺时 ， 仍无法获得EUV光刻机 ， 恐将遭遇难以攻克的技术瓶颈 。
希望之光：突破高资本、高技术壁垒
除了技术 ， 巨额的资本投入 ， 也对先进制程后来者带来了极高的行业壁垒 。 特别是先进制程 ， 研发投资尤高 。 徐韶甫补充表示：“随着制程越来越先进 ， 庞大的资本支出让门槛越来越高 ， 能进入先进制程的厂商也越来越少 。 加上晶圆制造需要长时间的累积 ， 这让后来者入局更加不易 。 ”
中芯国际无疑令中国大陆手握突破7纳米先进制程的“钥匙” 。 而梁孟松的加入 ， 为中芯国际按下了技术的“加速键” 。
梁孟松曾经在台积电和三星工作过 ， 来中芯国际已经是第三次做14nm FinFET工艺了 ， 具有丰富的经验 。 陈启称：“（FinFET技术发明人）胡正明教授曾是梁孟松的博士生导师 ， 可以说梁孟松是胡教授最得意的门生 。 ”
信达证券电子行业首席分析师方竞指出 ， “梁孟松到来之前 ， 中芯国际（与台积电、三星）的差距是逐年拉大的 。 他到来之后 ， 中芯国际的研发采取了跳代的方式 ， 直接跳到14纳米工艺 ， 之后继续向N+1、N+2工艺发展 。 ”
领路人有了 ， 资金问题如何解决？
一项又一项利好正帮助中芯国际突破高资本壁垒 。 中芯南方为中芯国际7纳米及以下制程的承载主体 ， 2018年1月30日 ， 中芯南方增资扩股 ， 注册资本由2.10亿美元增至35亿美元 ， 注资者为国家集成电路大基金以及上海集成电路基金 。
2020年5月15日 ， 中芯南方再度签署《增资扩股协议》 ， 国家、地方集成电路基金再度注资 ， 拟增资30亿美元至65亿美元 。 7月31日 ， 中芯国际宣布与北京开发区管委会订立合作框架文件 ， 双方有意成立合资企业 ， 聚焦于生产28纳米及以上集成电路 ， 该项目首期的估计投资及初始注册资本将分别为76亿美元及50亿美元 ， 约51％的注册资本由中芯国际出资 。
不仅仅是资金支持 ， 国家在财税政策上也给出了“史诗级”优惠 。 8月4日 ， 国务院发文指出 ， 国家鼓励的集成电路线宽小于28纳米（含） ， 且经营期在15年以上的集成电路生产企业或项目 ， 第一年至第十年免征企业所得税 。
陈启对采访人员表示：“若以持续经营时间超过15年计算 ， 满足该标准的只有中芯国际和华虹 。 ”
【中芯国际|落后之谜与希望之光 解码台积电“唯一追赶者” 中芯国际的难点与亮点】每日经济新闻


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